硅片清洗后有水印怎么办

硅片清洗后有水印怎么办呢？一起来和小编了解一下吧。

一、硅片清洗后有水印怎么办

1、冲洗不干净，可以拿一些干净的硅片再重新清洗一次，不要过清洗剂槽，看是否有水印出现，若无，则是清洗剂的问题，调整即可。

2、烘干不够，将硅片在进入烘干通道前取出甩干或吹干，看是否有水印，如无，则是加大烘干通道的力度。

3、水中杂质含量过高，造成不易清洗，清除水中的杂质即可。

二、硅片清洗工艺步骤有哪些

吸附在硅片表面上的杂质可分为分子型、离子型和原子型三种情况。其中分子型杂质与硅片表面之间的吸附力较弱，清除这类杂质粒子比较容易。它们多属油脂类杂质，具有疏水性的特点，对于清除离子型和原子型杂质具有掩蔽作用。

因此在对硅片进行化学清洗时，首先应该把它们清除干净。离子型和原子型吸附的杂质属于化学吸附杂质，其吸附力都较强。

在一般情况下，原子型吸附杂质的量较小，因此在化学清洗时，先清除掉离子型吸附杂质，然后再清除残存的离子型杂质及原子型杂质。

最后用高纯去离子水将硅片冲冼干净，再加温烘干或甩干就可得到洁净表面的硅片。

综上所述，清洗硅片的一般工艺程序为：去分子→去离子→去原子→去离子水冲洗。另外，为去除硅片表面的氧化层，常要增加一个稀*********浸泡步骤。

以上就是小编今日的分享了，希望可以帮助到大家。

硅片清洗

清洗硅片两步法

摘要

清洗硅片的方法是:首先将硅片浸泡在成膜溶液中，成膜溶液与脏的硅片反应，在硅片上形成一层膜，然后将硅片浸泡在膜文章全部详情：壹叁叁伍捌零陆肆叁叁叁剥离溶液中，去除膜。对于硅片，成膜溶液和脱膜溶液都可以由分别由49%重量的HF和70%重量的HNO3组成的单独的水溶液形成。

采用阶梯法清洗硅

新锯、研磨或研磨的硅片非常脏，如果后续的electronic设备制造过程要成功，就必须清洗。硅片上的污垢成分中有锭子油;硅粒子;硅粉;冷却溶液，包括湿润剂;研磨抛光砂;环氧树脂浇铸化合物;人类手指指纹，可能还有其他材料。

发明摘要

通过使用两步清洗过程，本发明克服了现有技术的晶圆清洗解决方案的上述问题。这个过程将清洗所有类型的晶圆片，并且不会显著地从重掺杂的p型晶圆片中滤出掺杂剂。这种清洗过程对任何工作损坏的表面都特别有用，但不限于工作损坏的表面。

首先，晶圆被处理成膜溶液，它与晶圆和/或污垢反应，在晶圆表面形成一层膜。硅片最好在去离子水中漂洗，然后浸入膜剥离溶液中，去除第一溶液形成的膜，使硅片保持干净。成膜溶液和脱膜溶液均可由分离的水溶液配制而成，该水溶液分别由重量为49%的HF和重量为70%的HNO3组成。